涂胶显影设备行业报告：芯源微专题研究（28页）

涂胶显影设备（Track或Coater＆Developer）是光刻工序中与光刻机配套使用的 涂胶、烘烤及显影设备，包括涂胶机（Spin Coater）、喷胶机（Spray Coater） 和显影机（Developer）。在早期的集成电路和较低端的半导体制造工艺中，此类 设备往往单独使用（Off Line）。随着集成电路制造工艺自动化程度及客户对产 能要求的不断提升，在200mm（8英寸）及以上的大型生产线上，此类设备一般都 与光刻设备联机作业（In Line），组成配套的圆片处理与光刻生产线，与光刻机 配合完成精细的光刻工艺流程。湿法设备是一种集合了流体力学、化学工程、材料科学、精密加工、电子控制、 计算机软件等多学科的高科技产品，是集成电路制造过程中使用比例最高的核心 生产设备。湿法设备可分为槽式湿法设备与单片式湿法设备，随着集成电路线宽 的不断缩小，对颗粒大小及数量、刻蚀速率及均匀性、金属污染控制、表面粗糙 度、圆片单面工艺等的要求越来越严格，单片式湿法设备正越来越多地使用到集 成电路的制造中来。公司生产的单片式湿法设备主要由清洗机、去胶机和湿法刻 蚀机构成。

涂胶显影设备是公司主力产品。从产品销售结构上来开，光刻工序涂胶显影设备 （涂胶/显影机、喷胶机）是公司的主力产品，2018年公司销售光刻工序涂胶显影 设备61台套，其中涂胶/显影机销售金额为1.2亿元，占总营收比重达到59.9%。公 司的单片式湿法设备（清洗机、去胶机、湿法刻蚀机）销量稳步提升，相关设备 的销售金额从2016年的100余万元增长到了2018年的7213万元。2016-2018年，公司营业收入分别为1.48亿元、1.90亿元、2.10亿元，2017、2018 年营收增速分别为28.7%、10.6%。从产品品类来看，2018年受下游客户需求影响， 公司涂胶显影设备销售收入下滑17.7%，同时公司的单片湿法设备快速放量，销 售收入迎来爆发式增长，支撑了全年的营收增速。经初步测算，公司2019年前三 季度预计实现营业收入8,700至10,100万元，同比增幅为-9%至5%，与上年同期基 本保持持平。公司瞄准世界科技前沿，坚持技术和产品的持续创新，2016-2018年始终保持大 额的研发投入并逐年增长，分别为1659万元、1976万元和3421万元，占各年度营 业收入的比例分别为11.2%、10.4%和16.3%。未来，公司将根据自身发展情况，继 续加大研发投入力度，为公司的技术创新、人才培养等创新机制营造良好的物质 基础。