高镍三元行业报告：掘金三元驱体巨头正在形成（40页）

行业报告下载 2019年07月08日 07:11 管理员

前驱体生产工艺可分为间歇法和连续法两种。间歇法在反应过程中，反应浆料通过溢流管不断溢出到浓缩机进行浓缩，清液滤掉进行废水处理，物料则返回反应釜让晶体继续长大，直至反应釜内前驱体粒径达到要求，然后转去陈化釜静置一段时间，以完善前驱体晶体结构形貌，然后进入后道过滤、洗涤、干燥、包装流程。连续法则在反应过程中，同时进料和出料，反应浆料通过溢流管不断溢出到陈化釜，经过陈化静置，然后进入后道过滤、洗涤、干燥、包装流程。

间歇法生产前驱体粒径分布极窄，连续法生产产能更高。间歇法生产物料在反应釜内停留时间较为均一，生产出前驱体粒径分布更窄，适用于生产高端型如高镍、单晶型前驱体产品；但存在生产连续性差，批次稳定性差缺点。连续法生产产率更高，相同容积反应釜连续法生产产能约为间歇法产能两倍，并且批次稳定性好；但由于一边进料一边出料，物料在反应釜内停留时间分布较宽，生产出的前驱体粒径分布也更宽，尤其存在一些粒径过小颗粒，在正极烧结过程中会导致过烧，从而影响正极品质，目前主要用于生产中低端前驱体产品。]

沉淀过程中的 pH 直接影响晶体颗粒的成核、生长。不同 pH 值条件下得到不同形貌的前驱体颗粒的原因可以解释为沉淀 pH 条件对晶体成核速度和生长速度的影响。当 pH 值偏低时，由于溶液中过饱和度较小，前驱体颗粒生长速度大于其成核速度，易于得到形貌较好的颗粒。而在高 pH 值条件下，溶液体系中过饱和度较大，晶核的形成速率很快，而前驱体颗粒的生长速度较慢，因而形成颗粒较小的微晶结构。