衬底环节是金属材料在半导体器件中的关键环节,所谓衬底即是一种用于制 造半导体器件的材料基底,常见的衬底包括硅、锗、碳化硅等。在生产半导体芯 片的工艺流...
2024-03-05 33 新材料及矿产报告
顶锤是金刚石制造过程中主要耗材之一。硬质合金顶锤的原材料主要为碳化 钨和钴,下游领域主要为人造金刚石。根据力量钻石原材料采购情况,2020 年公 司采购顶锤金额达到 1157.04 万元,占采购金额比重 13.54%,是人造金刚石生 产过程中主要的耗材。2020 年力量钻石采购员顶锤单价有所升高,主要原因是合 成腔体大型化,导致硬质合金顶锤大型化,顶锤的重量增加,单个顶锤价格上涨。在中国进行金刚石等超硬材料研发中,合成设备进行过多种类型的探索,开 始有两面顶、四面顶、六面顶等,后来具有中国特色的六面顶压机挺立潮头。由于 扩大腔体不仅能提高产量,更带来质量的提升,压机大型化和精密化成为技术创新 的重点,大型化也成为硬质合金顶锤发展趋势,在大单晶、PDC、NPD 以及其他 材料的高温高压合成领域都有着良好的应用前景。金刚石领域是顶锤行业的核心下游需求。顶锤作为静压法构成超高压高温装 置合成人造金刚石的关键部件,多用于安装在六面合金顶压机活塞的大垫块顶部, 是顶压机的核心构件。顶压机被广泛应用于制造工业金刚石与培育钻石等领域,人 造金刚石和培育钻石从而成为顶锤行业的核心下游需求。
随着科学技术的不断发展,顶压机也逐渐用于高压科学研究领域,如国内科研 所使用的一级大腔体压机基本采用国产六面顶压机,配备 WC 一级顶锤,在压力 低于 5.5GPa、温度低于 1800K 的温压区开展实验研究,与国内工业合成所用的 六面顶压机性能差别不大。 国内人造金刚石的制备方法主要是高温高压法(HPHT)。人造金刚石的制备 方法主要有高温高压法(HPHT)和等离子体化学气相沉积法(PCVD)。HPHT 法 即在高温高压的环境下,石墨“自发地”变成金刚石,是人类历史上首次成功合成 技术,也是国内目前主要方法;热力学上 HPHT 和天然金刚石钻石生成机理几乎 没有任何区别,天然的金刚石是在地底下受到了高温高压生成的,HPHT 法是人造 了一个这样的环境用于制备金刚石。HPHT 法由于其中触媒的存在做出来的金刚 石纯度往往不太理想,应用在光学和半导体等领域时会略显疲态。化学气相沉积法(CVD)是利用气态的先驱反应物,通过原子、分子间化学反 应的途径生成固态薄膜的技术。CVD 沉积金刚石时使用的是 700–800 °C 和 3kPa 这个参数(比天然金刚石形成环境要求强度低很多),原因在于导入的氢气 可以在振荡电场中生成氢原子,氢原子等会猛冲到基底表面,大量的石墨会被“溅 射清洗”掉,少量的金刚石核心因为可以经受这种打击所以可以继续长大结晶。 MPCVD 技术是目前国内外制备单晶金刚石应用最广泛的方法。
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