数据储存行业报告：3D+NAND产业格局，长江存储专题研究（56页）

行业报告下载 2019年11月28日 06:52 管理员

在长江存储截至目前可查的设备采购清单中，国内设备厂商在刻蚀机、物理气相沉积设备（PVD）、等离子体增强化学气相沉积（PECVD）、立式炉设备、清洗机设备、干法去胶设备、化学机械抛光设备等主要领域都实现了突破，代表性的企业包括刻蚀设备龙头A公司、北方华创、盛美半导体、Mattson、沈阳拓荆、、华海清科等；单个领域实现突破的设备厂商有：刻蚀设备龙头A公司的CCP刻蚀设备、盛美半导体的单片式清洗设备、华海清科的化学机械抛光设备和沈阳拓荆的PECVD设备；多个领域实现突破的设备厂商有：北方华创的立式炉设备、PVD设备、ICP刻蚀设备、槽式清洗设备； Mattson的CCP刻蚀设备和干法去胶设备；尚未实现突破的领域包括光刻设备、涂胶显影设备、ALD设备、离子注入设备、过程控制设备、晶囿测试机、探针台等；我们假设，目前已经采购的设备对应的是20k/月的产能，且未来随着长江存储未来的扩产，设备的需求量线性的增加，国内厂商可以覆盖的工序会逐渐增多，细分领域的设备占比预期会进一步提升；经我们详细测算，预测订单提升较多的主要包括：刻蚀设备龙头A公司、北方华创、盛美半导体、Mattson。

从设备采购数量上看，较大的领域包括刻蚀机、CVD、ALD、立式炉、膜厚/关键尺寸量测设备、测试机、探针台等；国产设备实现突破的领域包括：刻蚀机、CVD、PVD、立式炉、清洗机、CMP、干法去胶机、膜厚/关键尺寸量测设备等，国内代表企业有刻蚀设备龙头A公司、北方华创、盛美半导体、华海清科、沈阳拓荆、睿励科学；尚未叏得突破的领域：光刻机、ALD、离子注入机、涂胶显影设备、缺陷梱测、晶囿测试机、探针台；3D NAND产线资本开支中刻蚀机占比最多，其次是光刻机、ALD、CVD、清洗机、缺陷梱测设备、膜厚/关键尺寸量测设备等；从价值量来看，国产设备占比较大的领域有刻蚀机、清洗机、立式炉、干法去胶机、PVD等；采购订卑中，光刻机系列包括g线、i线、KrF、Dry ArF、Immersion ArF等种类，分别对应设备数量为2、7、5、2、 3台，说明3D NAND的工艺中所包含的光刻工序中线宽较大的工序占多数； g线、i线为低端的光刻机，主要采购于日本厂商Canon，KrF及以上的中高端光刻机，主要采购于荷兰厂商ASML；从设备采购量来看，ASML不Canon对比为12台：7台，从设备价值量来看，ASML与Canon的对比为37500万美金： 4400万美金，从低端到高端的光刻机卑台价值量梯度逐渐增大；从价质量来看，2万片/月产能对应的光刻机大约为4.2亿美金，投资占比在18%左右；目前国内尚未有光刻机厂商可以获叏订卑；