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2025-03-31 45 电子行业报告
2018 年全世界湿电子化学品市场规模达到 52.65 亿美元,三大市场应用量达到 307 万吨,其中半导体市场应用量约 132 万吨,显示面板市场应用量约 101 万 吨,太阳能电池领域应用量达到 74 万吨。预计到 2020 年三大应用市场湿电子 化学品市场规模将达到 58.50 亿美元,复合增长率将达到 12.4%。 我国在 21 世纪初湿电子化学品的生产量不足 5000 吨,发展到 2004 年达到了 1.1 万吨左右。自 2005 年以来,我国华东地区(主要指江阴-苏州地区)的湿电 子化学品生产规模得到快速发展,国内生产企业获得我国 6 英寸以下的晶圆加 工需求的主要的湿电子化学品市场。我国湿电子化学品产量在 2005 年以后呈 两位数年增长率的增长,在 2008 年实际产量已达到了 4.6 万吨。2009 年~2010 年又因遇到太阳能电池、平板显示器等新市场需求量增加的机遇,驱动着我国 湿电子化学品业在生产规模上有了大的飞跃。 18、19 年下游晶圆厂和面板厂大幅扩产的产能落地,18 年国内湿电子化学品 产量增速回升至 10%以上,国内湿电子化学品市场空间进一步扩大。根据中国 电子材料协会预测,到 2020 年国内湿电子化学品市场规模将达到 79.62 亿元, 总需求量将达到 90.51 万吨。
需要对晶圆进行清洗,采用物理或化学的方法去除硅片表面的污染物和 自身氧化物,要求既能去除各类杂质,又不损坏套片,这在集成电路生产过程 中大约占据 20%的工序。不同工序的清洗要求和目的也各不相同,因此需要采 取各种不同的清洗方法和技术手段,湿法化学清洗是较为常用的清洗方法,其 采用的化学品品种情况如表 6 所示。蚀刻技术可以大致分为湿式蚀刻与干式蚀刻两种方式,目前湿式蚀刻运用广泛, 因其操作简单、成本低廉、用时短且具有高可靠性、高的选择比。湿法刻蚀通 过特定的溶液(湿电子化学品)与需要刻蚀的薄膜材料发生化学反应,除去光 刻胶未覆盖区域的薄膜,湿电子化学品主要在湿式蚀刻加工过程中发挥功效。
湿电子化学品在半导体中应用中增速加快,随着我国半导体产业产能提升,规 模量逐渐增加,湿电子化学品产量和行业规模也逐渐提高,2018 年国内半导体 用湿电子化学品需求量达到 28.27 万吨,同比增长 22%。2018 年多数在建将 晶圆厂建成投产,未来也将带来巨大的湿电子化学品需求,未来随着国产替代 逐渐加深,产量和需求量将持续增长。根据中国电子材料协会预测,2020 年国 内半导体用湿电子化学品需求量将达到 43.53 万吨。 就各个具体类别的湿电子化学品来看,半导体用湿电子化学品中消耗量最大的 是硫酸(占 32.7%),其他消耗量较大的湿电子化学品还有双氧水(占 28.4%)、 氨水(占 8.3%)、显影液(占 6.3%)。
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