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半导体新材料行业报告-化学品专题报告(33页)

行业报告下载 2017年07月07日 07:15 管理员

核心光阻材料(光刻胶)技术壁垒最高,短时间内突破需要自主研发和海外并购并举。国内光阻材料的研发起步较晚,落后日本、美国等发达国家20 年以上,本土以外公司光阻材料在国内市场份额占有率达到85%以上。受光刻机设备进口限制和光刻胶核心原料技术限制影响,光阻材料短时间靠自主研发攻克很难。国内企业亟待通过海外并购,聘请高层次技术人员和开展跨国合作等方案实现技术升级。半导体新材料行业报告-化学品专题报告(33页)

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