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2025-01-19 3 电子行业报告
半导体新材料行业报告-化学品专题报告（33页）
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2017年07月07日 07:15
管理员
核心光阻材料（光刻胶）技术壁垒最高，短时间内突破需要自主研发和海外并购并举。国内光阻材料的研发起步较晚，落后日本、美国等发达国家20 年以上，本土以外公司光阻材料在国内市场份额占有率达到85%以上。受光刻机设备进口限制和光刻胶核心原料技术限制影响，光阻材料短时间靠自主研发攻克很难。国内企业亟待通过海外并购，聘请高层次技术人员和开展跨国合作等方案实现技术升级。
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