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2025-04-17 12 电子行业报告
国内半导体产业蓬勃发展,为半导体设备公司提供了广阔的平台市场,薄膜沉积设备厂商深度受益。美国对华半导体制裁持续,先进制 程受阻,中短期内,国内半导体产业锁定成熟制程快速拓展,形成存量国产替代和产业增量拓展的双重推手,外部市场环境优越,国内 半导体设备厂商迎来前所未有的机遇;远期看,先进制程快速发展,半导体工艺复杂度大幅提高,对半导体设备的市场需求也随之攀升, 待国内先进制程取得突破后,对设备产业链将起到巨大的带动作用。薄膜沉积设备作为半导体制造三大核心设备之一,是后续几乎所有 工艺的基础,重要性不言而喻,在目前优越的市场环境及政策支持下,产业链共同发力,需求端火热,供给端也在努力追赶、加速放量, 叠加目前仍然较低的国产化水平,产业前景长期向好的趋势较为明确。 PVD、CVD是薄膜沉积主流,ALD作为沉积设备新宠,在先进制程中的应用越发凸显。PVD、CVD占据薄膜沉积赛道的半壁江山,半导体制造 中绝大多数金属层、介质层及半导体层均为PVD、CVD设备制造;
随着先进制程的不断发展,对膜厚精度、薄膜质量、台阶覆盖率等提出 了更高的要求,HDPCVD、SACVD等技术应运而生,且ALD由于具备原子层级的膜厚控制能力,在先进制程的核心工艺(如SADP、HKMG等) 中发挥关键作用,逐渐成为先进制程工艺平台的“新宠”。 国内多家厂商在薄膜沉积设备领域均有涉猎,侧重点有所差异,竞争格局较为良性。北方华创是国内PVD龙头,稀缺性较强,且在LPCVD、 APCVD、ALD领域也有所布局,产品已经批量应用到半导体产线中;拓荆科技专注薄膜沉积设备,拥有PECVD、SACVD、ALD三大产品系列, 公司处于快速上升阶段;微导纳米依靠ALD设备起家,在光伏、半导体中均有应用,且公司是国内首家成功将量产型High-k ALD应用于 28nm节点集成电路制造前道生产线的国产设备公司,在ALD领域颇具竞争优势。上述半导体设备厂商的产品结构有所不同,侧重点分化明 显,形成了较为良性的差异化竞争格局。
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