半导体材料行业研究报告：进口替代（14页）

目前，国内 8 寸的硅片生产厂商仅有有研新材、金瑞泓等少数厂商，远没有满足 国内市场，12 寸硅片目前基本上采用进口， 过去可以说是国内半导体产业链上缺失的 一环。上海新昇实现 300 毫米半导体硅片的国产化。公司自 2017 年第二季度开始有挡 片、空片、陪片等测试片的销售，并向中芯国际、上海华力微、武汉新芯等晶圆制造企 业提供正片进行认证。上海新昇 2018 年底月产能达到 10 万片，2020 年底前将实现月产 30 万片产能目标，最终将达到 100 万片的产能规模。 目前，硅片主流产品是 12 英寸，根据 SUMCO 的预测，300mm 总需求将会从 2018 年的 600 万片/月增加到 2021 年的 720 万片/月，复合增速约为 6%。从 2013-2018 年， 全球硅片出货量（应用于半导体生产）稳步增长，2018 年全球硅片出货量为 12733 百万 平方英尺，同比增长 7.82%。

超净高纯试剂：又称湿化学品，是指主体成分纯度大于 99.99%，杂质离子和微粒 数符合严格要求的化学试剂。主要以上游硫酸、盐酸、氢氟酸、氨水、氢氧化钠、氢氧 化钾、丙酮、乙醇、异丙醇等为原料，经过预处理、过滤、提纯等工艺生产的得到纯度 高产品。在半导体领域主要用于芯片的清洗和腐蚀，同时在硅晶圆的清洗中也起到重要 作用。其纯度和洁净度对集成电路成品率、电性能及可靠性有十分重要的影响。 SEMI(国际半导体设备和材料协会)专门制定、规范超净高纯试剂的国际统一标准 -SEMI 标准。按照 SEMI 等级的分类，G1 等级属于低档产品，G2 等级属于中低档产品， G3 等级属于中高档产品，G4 和 G5 等级则属于高档产品。随着集成电路制作要求的提 高，对工艺中所需的湿电子化学品纯度的要求也不断提高。对于半导体材料领域，12 寸制程中湿电子化学品技术等级需求一般在 G3 级以上。

应用于半导体的超净高纯试剂，全球主要企业有德国巴斯夫，美国亚什兰化学、Arch 化学，日本关东化学、三菱化学、京都化工、住友化学、和光纯药工业，台湾鑫林科技， 韩国东友精细化工等，上述公司占全球市场份额的 85%以上。 目前，国内生产超净高纯试剂的企业中产品达到国际标准且具有一定生产量的企业 有 30 多家，国内超净高纯试剂产品技术等级主要集中在 G2 级以下，国内江化微、晶 瑞股份等企业部分产品已达到 G3、G4 级别，晶瑞股份超纯双氧水已达 G5 级别，部分 产品已经实现进口替代。我国内资企业产超净高纯试剂在 6 英寸及 6 英寸以下晶圆市场 上的国产化率已提高到 80%，而 8 英寸及 8 英寸以上晶圆加工的市场上，其国产化率由 2012 年约 8%左右缓慢增长到 2014 年的 10%左右。超净高纯试剂产能方面，晶瑞股份产 能 3.87 万吨，江化微产能 3.24 万吨。 电子气体：电子气体在电子产品制程工艺中广泛应用于薄膜、蚀刻、掺杂等工艺， 被称为半导体、平面显示等材料的“粮食”和“源”。电子特种气体又可划分为掺杂气、 外延气、离子注入用气、LED 用气、蚀刻用气、化学汽相沉淀用气、载运和稀释气体等 几大类，种类繁多，在半导体工业中应用的有 110 余种电子气体，常用的有 20-30 种。