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半导体前道设备行业报告:光刻机、刻蚀机、薄膜沉积设备、清洗设备、CMP 设备、离子注入机、热处理设备(51页)

行业报告下载 2022年03月13日 08:51 管理员

半导体前道制造设备是半导体制造设备的投资重点。根据半导体制造中前道工 艺(晶圆制造)和后道工艺(封装测试)之分,应用于集成电路领域的设备通 常可分为前道工艺设备和后道工艺设备两大类,其中前道设备市场占半导体设 备主要市场份额,根据 SEMI 数据,2020 年全球晶圆制造(前道)设备市场占 比为 86.1%,后道封装及测试设备分占 5.4%和 8.5%,预计 2021-2023 年该比 重也将维持在 86%左右。薄膜生长、刻蚀和光刻设备为半导体前道制造核心设备,其市场规模最大。对 应主要工艺,半导体前道设备主要包括氧化/扩散设备、光刻设备、刻蚀设备、 清洗设备、离子注入设备、薄膜沉积设备、机械抛光设备等,其中光刻、刻蚀 和薄膜生长设备市场规模最大。

根据 Gartner 数据,2020 年全球半导体前道薄 膜生长、刻蚀和光刻设备市场规模分别为 139.2 亿美元、136.9 亿美元和 135.4 亿美元,分别以 21.5%、21.1%和 21.9%市占率位居前三。全球半导体前道设备由美、日、欧企业主导供给端,中国厂商市场占比较低。 根据 Gartner 数据,2020 年前十大前道半导体设备厂商中 3 家来自美国,总计 市占率 40%;4 家来自日本,市占率 19.5%;荷兰的 ASML 由于其在浸润式 DUV 光刻机及 EUV 垄断地位,以 18.1%市场份额占据全球第二。中国主要前 道半导体设备厂商北方华创、屹唐旗下 Mattson、中微公司和盛美总计仅占全 球 1.5%市场份额。扩产周期内,半导体设备龙头有望迎戴维斯双击。根据历年财报数据,2016 年 至 2021 年,全球前道半导体设备龙头应用材料、ASML 和泛林营收分别增长 1.1、2.1、1.5 倍,净利润增长 2.4、3.3、3.3 倍,同期(2016 年 12 月 31 日 至 2021 年 12 月 31 日),市值分别增长 3、5.8、4.9 倍。

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