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磷化铟凭借超高电子迁移率与精准匹配通信窗口的直接带隙特性,有望 成为 1.6T 及 CPO 时代高速光芯片不可替代的物理基石。磷化铟(InP) 作为第二代化合物半导体的核心,其物理特性决定了其在 AI 算力时代 不可替代的战略地位。相较于传统硅材料,磷化铟拥有其 4 倍以上的电 子迁移率,这使其在高频高速场景下展现出卓越的性能。更重要的是, 磷化铟是直接带隙材料,通过外延生长特定的合金,其发光波长可精准 覆盖光纤通信中损耗最低的 1310nm 与 1550nm 窗口。随着光模块从 800G 向 1.6T 乃至 3.2T 演进,单颗模块对磷化铟芯片的需求量呈倍数 增长,且 1.6T 及 CPO 技术要求的激光器阵列化,迫使衬底尺寸从 2 英 寸向 6 英寸跨越。这种从“分立器件”向“大规模阵列”的迭代,不仅 对衬底的晶体质量、表面平整度提出了极致要求,更确立了磷化铟作为 光通信核心衬底、量子计算及卫星通信关键材料的基础性地位。

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